中微公司首臺(tái)8英寸CCP刻蝕設(shè)備Primo AD-RIE 200順利付運(yùn)

6月17日消息，前日中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司首臺(tái)8英寸甚高頻去耦合反應(yīng)離子（CCP）刻蝕設(shè)備Primo AD-RIE 200™順利付運(yùn)客戶生產(chǎn)線。

（圖為中微CCP刻蝕設(shè)備研發(fā)團(tuán)隊(duì)部分主要成員）

據(jù)悉Primo AD-RIE 200™是中微公司自主研發(fā)的新一代8英寸甚高頻去耦合反應(yīng)離子（CCP）刻蝕設(shè)備?；谝驯粯I(yè)界廣泛認(rèn)可的12英寸CCP刻蝕設(shè)備的成熟工藝與特性，Primo AD-RIE 200™在技術(shù)創(chuàng)新和生產(chǎn)效率方面都有了進(jìn)一步提升，能夠滿足不同客戶8英寸晶圓的加工需求。為了提高生產(chǎn)效率，Primo AD-RIE 200™刻蝕設(shè)備可靈活配置多達(dá)三個(gè)雙反應(yīng)臺(tái)反應(yīng)腔（即六個(gè)反應(yīng)臺(tái)）。此外，Primo AD-RIE 200™提供了可升級(jí)至12英寸刻蝕設(shè)備系統(tǒng)的靈活解決方案，以滿足客戶生產(chǎn)線未來可能擴(kuò)產(chǎn)的需求。

“Primo AD-RIE 200™是中微公司推出的用于8英寸晶圓加工的CCP刻蝕設(shè)備，豐富了中微公司現(xiàn)有的刻蝕設(shè)備產(chǎn)品線，是中微公司發(fā)展歷程中又一重要里程碑。中微公司不但聚焦于高端半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，同時(shí)也提供其他多種設(shè)備以滿足集成電路和泛半導(dǎo)體領(lǐng)域多樣化的市場需求。”中微公司副總裁兼CCP等離子體刻蝕產(chǎn)品部總經(jīng)理蘇興才博士說道，“我們希望堅(jiān)持致力于產(chǎn)品創(chuàng)新和技術(shù)提升，不斷滿足客戶的多樣化需求，助力客戶應(yīng)對行業(yè)挑戰(zhàn)。”

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