7月27日,在Inel Accelerated大會上,英特爾首席執(zhí)行官基辛格(Pat Gelsinger)表示,摩爾定律仍在持續(xù)生效。
在當(dāng)天大會上,英特爾公布了未來制程技術(shù)路線圖,同時介紹了下一代極紫外光刻(EUV)技術(shù)的使用計劃。根據(jù)進(jìn)展,英特爾有望得 獲得業(yè)內(nèi)第一臺High-NA EUV光刻機(jī)。而在客戶上,基辛格透露已與AWS簽約,該公司將成為第一個使用英特爾代工服務(wù)(IFS)封裝解決方案的客戶。同時,高通也將采用Intel 20A制程工藝技術(shù),這一技術(shù)預(yù)計將在2024年推出。
在發(fā)布會上,英特爾公布了未來5年的技術(shù)路線圖,對芯片的制程工藝進(jìn)行了新的命名,10納米Enhanced SuperFin更名為“Intel 7”、Intel 7納米更名為“Intel 4”、其后是“Intel 3”、下一代將是“Intel 20A”、 “Intel 18A”。
此外,基辛格表示,預(yù)計在今年年底前宣布在歐洲以及美國的進(jìn)一步工廠布局。“這將是一筆足以支持大型晶圓廠的巨額投資,雖然我們自己已在推進(jìn)其中的一些投資項目,但同時歡迎美國和歐盟的政策制定者能夠以緊迫感采取行動,加快我們和集成電路產(chǎn)業(yè)其他公司的項目進(jìn)展。”
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