中芯國際：新規(guī)對10nm及以下先進工藝研發(fā)有重大不利影響

中芯國際 12 月 20 日晚間發(fā)布說明公告稱，公司被列入 “實體清單”后，根據(jù)美國相關法律法規(guī)的規(guī)定，針對適用于美國《出口管制條例》的產品或技術，供應商須獲得美國商務部的出口許可才能向公司供應；對用于 10nm 及以下技術節(jié)點（包括極紫外光技術）的產品或技術，美國商務部會采取 “推定拒絕”（Presumption of Denial）的審批政策進行審核；同時公司為部分特殊客戶提供代工服務也可能受到一定限制。

在說明公告中，中芯國際表示，經初步評估，該事項對公司短期內運營及財務狀況無重大不利影響，對 10nm 及以下先進工藝的研發(fā)及產能建設有重大不利影響。公司將持續(xù)與美國政府相關部門進行溝通，并視情況采取一切可行措施，積極尋求解決方案，力爭將不利影響降到最低。

值得一提的是，有媒體報道稱，在中芯國際新任副董事長蔣尚義的幫助下，中芯國際將尋求與荷蘭半導體設備公司阿斯麥（ASML）就 EUV 光刻設備進行談判。中芯國際一直難以從阿斯麥獲得 EUV 光刻設備，盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響，但仍存顧慮。

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