3月8日,上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司發(fā)布公告,披露了關(guān)于購買ASML-1400光刻機(jī)的最新進(jìn)展。
據(jù)介紹,上海新陽自立項(xiàng)開發(fā)193nmArF干法光刻膠的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目以來,安排購買了ASML-1400光刻機(jī)等核心設(shè)備,并于2020年12月14日披露,該光刻機(jī)將于2020年底前運(yùn)抵國內(nèi)。
不過此后,由于上海新陽與光刻機(jī)供應(yīng)商、北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(畢竟)有限公司在溝通協(xié)調(diào)設(shè)備運(yùn)輸與安裝等細(xì)節(jié)方面遇到波折,光刻機(jī)設(shè)備沒能在規(guī)定時間內(nèi)運(yùn)達(dá)。
隨后,雙方就具體合作細(xì)節(jié)簽署了《合作框架協(xié)議》,預(yù)計(jì)該光刻機(jī)將于2021年3月底前進(jìn)入北方集成電路現(xiàn)場。
現(xiàn)經(jīng)各方積極協(xié)商、運(yùn)作,這臺光刻機(jī)設(shè)備于今日已進(jìn)入北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(北京)有限公司的場地,后續(xù)將進(jìn)行安裝調(diào)試等相關(guān)工作。
上海新陽表示,采購的ASML干法光刻機(jī)設(shè)備順利交付,對加快193nm ArF干法光刻膠產(chǎn)品開發(fā)進(jìn)度有積極影響,有利于進(jìn)一步提升公司光刻膠產(chǎn)品的核心競爭力,加快落實(shí)公司發(fā)展戰(zhàn)略,提高公司抗風(fēng)險能力和可持續(xù)發(fā)展能力。
不過,這臺光刻機(jī)尚須經(jīng)過裝機(jī)、調(diào)試等相關(guān)環(huán)節(jié),如果出現(xiàn)工作疏漏或失誤,則存在造成光刻機(jī)投入使用過程較長,甚至無法投入使用的風(fēng)險。
另外,光刻膠研發(fā)項(xiàng)目技術(shù)壁壘高、周期長,投入產(chǎn)業(yè)化并最終實(shí)現(xiàn)銷售利潤,仍需一定時間,而且價格昂貴,其折舊及后續(xù)維護(hù)費(fèi)用預(yù)計(jì)對公司的經(jīng)營業(yè)績存在一定影響。
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