康寧房毅:密集光學(xué)連接演進(jìn)需實(shí)現(xiàn)四大創(chuàng)新要求

4月9日消息(顏翊)日前在中國國際光電博覽會(huì)聯(lián)合C114通信網(wǎng)舉辦的“硅光集成與數(shù)據(jù)中心應(yīng)用研討會(huì)”上,康寧光通信中國應(yīng)用工程/市場(chǎng)開發(fā)總監(jiān)房毅帶來了《聯(lián)合封裝中的高級(jí)光學(xué)連接》的主題演講,介紹了如何更好實(shí)現(xiàn)集成光學(xué)系統(tǒng)中的高級(jí)光學(xué)連接。

房毅表示,數(shù)據(jù)中心交換能力的不斷提升,不僅帶來了對(duì)光纖需求以及端口需求的增長(zhǎng),也給集成光學(xué)帶來了新機(jī)遇。當(dāng)端口速率提高至800G b/s TRX以上時(shí),傳統(tǒng)的可插拔式光模塊暴露出局限性,需要演進(jìn)到集成光學(xué)。隨著未來面臨技術(shù)的發(fā)展和更高的需求,集成光學(xué)技術(shù)還將演進(jìn)至第二代甚至更加高級(jí)的階段。

目前,可插拔式光模塊的優(yōu)勢(shì)在于確立了良好的規(guī)格形式、模塊化的插拔方式使用方便、有著 “簡(jiǎn)單明確”的光學(xué)I/O。但是當(dāng)隨著交換能力或出口帶寬提升,可插拔式光模塊需要過渡到集成光學(xué)從而增加了大量的內(nèi)部光纖和光連接。因此,帶來了更多的光纖耦合,線纜連接、光纖纏繞和管理等諸多挑戰(zhàn)。

房毅指出,聯(lián)合封裝光系統(tǒng)(CPO)帶來日益增長(zhǎng)的密集光學(xué)連接、創(chuàng)新要求跨越了光連接解決方案的所有部件,包括光纖-芯片耦合、特殊光纖、光纖管理、面板光連接系統(tǒng)。

在光纖-芯片耦合密度方面,在有限的空間中實(shí)現(xiàn)大量芯片光纖的耦合是個(gè)非常有挑戰(zhàn)的問題。舉例來說,以51.2T交換機(jī)的ASIC芯片為例,如果采用DR4并行光學(xué)架構(gòu)設(shè)計(jì),由于空間尺寸所限目前標(biāo)準(zhǔn)的光纖將無法實(shí)現(xiàn)耦合需求。如果FR4架構(gòu)則標(biāo)準(zhǔn)的光纖可以適用,但需要減小光纖尺寸,另一方面,在耦合時(shí),必須使用交錯(cuò)堆疊的方式。除此以外,由于芯片光纖耦合中,有些是單模光纖,有些是保偏光纖、光纖需要具備非常精確的同心度,保證耦合效果。

由于光纖數(shù)量增加,需要通過降低包層直徑來增加密度。傳統(tǒng)的250µm光纖即使除去二次被覆層,對(duì)于集成光學(xué)而言直徑也是比較大的,因此,把光纖包層降低至60-80µm,可在保持高可靠性的同時(shí)更貼合光纖尺寸,也實(shí)現(xiàn)較低的材料成本和重量。與此同時(shí),也需要關(guān)注由此可能帶來的挑戰(zhàn),如需要兼容傳統(tǒng)的125/250µm生態(tài)系統(tǒng),通過光纖和包層的設(shè)計(jì)來緩解其較高的微米級(jí)敏感彎曲和更細(xì)的二次被覆層帶來的抗刺穿和破損性能下降等。所以,這使得光纖陣列單元的間距從250µm 、127µm、向84µm演變和彎曲耦合時(shí)實(shí)現(xiàn)更小的光纖陣列外形以及較好的熱膨脹系數(shù),匹配硅材料。

在光纖的管理中,光纖的冗余、路徑和盤繞以及如何操作和可維護(hù)性等帶來的挑戰(zhàn)都需要進(jìn)行考量??祵帉⒉煌墓饫w類型針對(duì)不同的應(yīng)用環(huán)境進(jìn)行了簡(jiǎn)單分析對(duì)比,得出的結(jié)論是,傳統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)帶狀光纖可實(shí)現(xiàn)較低的成本、更易于端接/成端以及自由交叉布局,而含束管柔性帶狀光纖的優(yōu)勢(shì)則是可帶來更高的堅(jiān)固性、較小的彎曲一致性。

在前端面板的連接中,由于交換能力和內(nèi)部光纖的增加,面板光纖輸出連接器隨之大量增加。以目前的LC連接器為例,51.2Tb/s交換機(jī)的能力時(shí)FR4需要2U的空間,DR4則需要4U的空間。目前高密度光纖連接器 MPO為24芯, 32芯版本可以選用但是插損較高。房毅介紹,對(duì)于未來的創(chuàng)新解決方案,16芯MDC形式可實(shí)現(xiàn)容量提升數(shù)倍,在1U的空間中通過16芯的MDC連接器在16個(gè)面板中每個(gè)插孔用4個(gè)連接器實(shí)現(xiàn)1U空間內(nèi)16x4x16,共1024芯光纖的高密度連接。

房毅期望,未來集成光學(xué)技術(shù)能夠通過光-電玻璃基板來降低復(fù)雜性,離子交換 (IOX)實(shí)現(xiàn)高密度 (50 µm pitch) 波導(dǎo)、以及更低的耦合損耗和傳輸損耗來實(shí)現(xiàn)更高性能的集成光學(xué),相對(duì)于傳統(tǒng)PCBs,可以有效改善熱膨脹系數(shù)(CTE)以及平坦度特性等。目前康寧正在致力于這些新技術(shù)的研發(fā),如玻璃中介層,多芯片模塊,光回路板等都在發(fā)展過程中。

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2021-04-09
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