11月29日消息（南山）據(jù)多家臺灣媒體報道，臺灣晶圓廠聯(lián)電發(fā)布公告，公司已與美光達成全球范圍內的和解協(xié)議，雙方將各自撤回向對方提起的訴訟，同時聯(lián)電向美光一次性支付一筆金額保密的和解金，未來雙方將共同創(chuàng)造合作機會。
臺媒報道稱，在達成和解后，聯(lián)電或可能追隨臺積電的腳步，前往美國新建晶圓廠。不過有業(yè)內人士表示，美國需要的是先進制程，聯(lián)電赴美不太可行。
據(jù)報道，聯(lián)電現(xiàn)有12座晶圓廠，主要是成熟制程，是28nm的重要代工廠之一。而雙方訴訟，起源于2016年聯(lián)電與福建多家公司合資組建晉華公司，令美光感受到威脅，美光于2017年起訴聯(lián)電違反反營業(yè)秘密法。后來，美國司法部親自下場，指控福建晉華與聯(lián)電共謀“盜竊”美國商業(yè)機密。
在美國司法部的強大壓力下，聯(lián)電選擇退讓，去年與美國司法部達成和解，賠償6000萬美元，從而避免了高額罰款。
本次與美光達成合作，聯(lián)電將可以擺脫來自美國的訴訟困擾，輕裝上陣。
隨著與美國司法部、美光先后達成和解，遭遇挫折的福建晉華也迎來轉機。如果聯(lián)電無罪，那么晉華的“同謀罪”，也就無從說起。
免責聲明：本網站內容主要來自原創(chuàng)、合作伙伴供稿和第三方自媒體作者投稿，凡在本網站出現(xiàn)的信息，均僅供參考。本網站將盡力確保所提供信息的準確性及可靠性，但不保證有關資料的準確性及可靠性，讀者在使用前請進一步核實，并對任何自主決定的行為負責。本網站對有關資料所引致的錯誤、不確或遺漏，概不負任何法律責任。任何單位或個人認為本網站中的網頁或鏈接內容可能涉嫌侵犯其知識產權或存在不實內容時，應及時向本網站提出書面權利通知或不實情況說明，并提供身份證明、權屬證明及詳細侵權或不實情況證明。本網站在收到上述法律文件后，將會依法盡快聯(lián)系相關文章源頭核實，溝通刪除相關內容或斷開相關鏈接。
